半導體製造

半導體製造是一個極其複雜的過程,需要數千個精確控制的步驟。 由於這些步驟中的大多數使用了氣體和真空的關鍵混合物,因此測量和調節它們是一致性、質量和產量的關鍵。 在整個半導體製造過程中使用廣泛的 Brooks Instrument 解決方案,包括質量流量控制器、壓力控制器、PLC 等,以幫助確保取得成功和盈利的結果。
應用示例
- 退火
- CMP
- 沉積
- 擴散
- 外延
- 離子注入
- 光刻
- 精确控制液体和固体前体的气体输送
- 低压臭氧应用中基于压力的质量流量控制器
低压臭氧应用中基于压力的质量流量控制器

臭氧是一种强大的氧化剂,广泛用于半导体制造领域。它可以以快速反应速率生产许多氧化物化合物和复杂结构,使其成为半导体制造工艺的实用选择。然而,热分解和低压输送使臭氧难以精确控制。