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半导体产品 Ultra-high purity products for the semiconductor industry
半導體製造是一個極其複雜的過程，需要數千個精確控制的步驟。 由於這些步驟中的大多數使用了氣體和真空的關鍵混合物，因此測量和調節它們是一致性、質量和產量的關鍵。 在整個半導體製造過程中使用廣泛的 Brooks Instrument 解決方案，包括質量流量控制器、壓力控制器、PLC 等，以幫助確保取得成功和盈利的結果。
應用示例
臭氧是一种强大的氧化剂，广泛用于半导体制造领域。它可以以快速反应速率生产许多氧化物化合物和复杂结构，使其成为半导体制造工艺的实用选择。然而，热分解和低压输送使臭氧难以精确控制。
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控制液体或固体前体的蒸汽输送是化学气相沉积（CVD）、金属有机气相沉积（MOCVD）和原子层沉积（ALD）工艺的一个基本要求。