Semiconductor Manufacturing

MFC, Pressure Controller, PLC 등을 포함한 광범위한 Brooks Instrument 솔루션은 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 활용되어 성공적이고 수익성 있는 결과를 보장하는데 도움이 됩니다.

반도체 제조는 수천 개의 정밀하게 제어되는 단계를 필요로 하는 매우 복잡한 프로세스입니다. 이러한 단계의 대부분은 중요한 Gas 혼합물과 진공을 사용하기 때문에 이를 측정하고 조절하는 것이 일관성, 품질 및 수율의 핵심입니다. MFC, Pressure Controller, PLC 등을 포함한 광범위한 Brooks Instrument 솔루션은 반도체 제조 공정 전반에 걸쳐 활용되어 성공적이고 수익성 있는 결과를 보장하는데 도움이 됩니다.

적용 예:

Annealing
CMP
Deposition
Diffusion
Epitaxy
Etching
Ion Implantation
Lithography
Precise Control of Gas Delivery for Liquid and Solid Precursors
Pressure-based mass flow controller provides more accurate gas flow control for ozone applications

액체 및 고체 전구체를 위한 가스 전달의 정확한 제어

액체 또는 고체 전구체로부터의 증기 전달 제어는 CVD(Chemical Vapor Deposition), MOCVD(Metal Organic Vapor Deposition), ALD(Atomic Layer Deposition) 공정에서 필수적인 요건이다.

- 06/20/2022

저압 오존 응용 분야의 압력 기반 질량 흐름 컨트롤러

오존은 반도체 제조 분야의 다양한 응용 분야에서 사용되는 강력한 산화제입니다. 빠른 반응 속도로 많은 산화물 화합물 및 복잡한 구조의 생산을 가능하게 하여 반도체 제조 공정에 실용적인 선택이 됩니다. 그러나 열 분해 및 저압 전달로 인해 오존을 정밀하게 제어하는 데 어려움이 있습니다.