課題：ツールの生産稼働時間と生産性を最大限に拡大
マスフローコントローラの信頼性と汎用性の高い性能は、半導体プロセスツールでは不可欠な要素です。プロセスツールは、正常に稼働して初めて数百万ドルの投資を回収することができます。MFCが重要なセットポイントから偏差が生じる場合、または新しい製造プロセスで複数のガス種（複数のMFC）が必要になった場合、交換、再キャリブレーション、修理によるダウンタイムが大きくなる危険性があります。
解決策：先進的な MultiFlo®対応 GF シリーズ MFC
GFシリーズメタルシールマスフローコントローラ/メータは、精度と繰り返し性が高く、高清浄度および超高清浄度のプロセスガス供給を実現します。GFシリーズは、半導体業界の標準に合わせ、7回の連続テストを行っています。オールメタル流路と耐腐食ハステロイ®製センサにより、高清浄度のガスと湿度（水分）を含まない流量を実現します。ブルックス独自の設定可能なMultiFlo®テクノロジーにより、1台のMFCで数千種類のガスタイプとレンジの組み合わせをサポートすることができます。
その結果、 業界最高レベルのガス清浄度を実現するとともに、プロセスの柔軟性と効率性を向上し、収率と生産性を最大限に拡大することができます。